锡锑氧化物

锡锑氧化物介绍

可以制作一种薄膜，构成半导体pn结，可能有发展前景。

简介

锡锑氧化物用反应磁控溅射法制备一种半导体薄膜(TAO)，当Sn：Sb原子比处于0.22～0.33范围内时,TAO薄膜是p型导电的，在此范围之外,TAO薄膜是n型导电的，两端用适当的电极连接，能构成透明PN结构的整流特性。其工艺比较简单，前景可期。